Mikrolinsen Qualitätskontrolle
Wafer Level Qualitätskontrolle mit manuellem Laden
Das präzise Messen des ROC (radius of curvature), der konischen Konstante und des Rauheitswert RMS erlauben die umfassende Charakterisierung der Geometrie von Mikrolinsen und damit einhergehend ihre optische Performance.
Auf einem einzigen Wafer sind heutzutage zehntausende von Mikrolinsen. Dank der einzigartigen Messgeschwindigkeit des DHM® wird eine 100% Kontrolle einer solch grossen Linsenzahl zeitlich attraktiv wenn nicht gar erst ermöglicht.
Wir zeigen mit dieser Anwendung unser dafür entwickeltes DHM System mit User Interface für Wafer Level Qualitätskontrolle der Mikrolinsen Geometrie.
Beschreibung:
- Mikrolinsen/Wafer Material: Glas oder Silizium
- Aufnahme- und Analysezeit: 0.25 sec / Linse
- ROC > 250 Mikrometer (Objektiv abhängig)
- Spezifikationen gemessen an einer 500 µm ROC Referenzkugel
- Genauigkeit < 0.5%
- Wiederholbarkeit < 0.05%
- Messprozess: kundenspezifisches User Interface entsprechend der Anwendung.
- Manuelles Laden der Wafer
- Halbautomatisches Alignment
- Vollautomatisches Scannen aller oder vordefinierter Stellen
- Automatisches Messen des ROC, Kegelschnitt und RMS
- Automatische Protokollierung
- Instrument:
- Industrielles DHM® R100 (Einzelwellenlänge & Einzelobjektiv)
- Mögliche Objektive: 2.5x, 5x, 10x, oder 20x
- Industrieller Messplatz mit motorisiertem Verfahrtisch, bis zu 300x300x100 mm
- Spezifikationen gemessen an einer 500 µm ROC Referenzkugel
- Genauigkeit < 0.5%
- Wiederholbarkeit < 0.05%
- Manuelles Laden der Wafer
- Halbautomatisches Alignment
- Vollautomatisches Scannen aller oder vordefinierter Stellen
- Automatisches Messen des ROC, Kegelschnitt und RMS
- Automatische Protokollierung
- Industrielles DHM® R100 (Einzelwellenlänge & Einzelobjektiv)
- Mögliche Objektive: 2.5x, 5x, 10x, oder 20x
- Industrieller Messplatz mit motorisiertem Verfahrtisch, bis zu 300x300x100 mm
